磁控濺射設備
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多弧靶

2020-07-14 13:50:24
多弧靶
詳細介紹:

多弧靶

多弧靶

技術領域本實用新型涉及一種真空離子多弧鍍膜機設備的關鍵部件——多弧靶。

目前,國內外的真空離子多弧鍍膜機設備,大多數采用直徑50~100mm的圓形平面多弧靶,一臺鍍膜機需要配置幾個甚至幾十個這種靶,相應地還要配備幾個甚至幾十個引弧裝置和電弧源,使用時,必須逐個點燃每一個靶,關注每個弧源的運行情況,因而導致真空離子多弧鍍膜機設備的弧靶系統復雜,造價高,操作繁瑣。另外,圓形平面多弧靶還存在控弧磁場位形不合理、靶材刻蝕不均勻、弧斑運動不穩定、經常跑弧和熄弧等缺陷,影響工業化生產過程中的鍍膜質量。


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